Japonés propone tecnología ultravioleta extrema para mejorar fabricación de semiconductores
La litografía EUV reduce los costos y mejora drásticamente la confiabilidad y la vida útil de las máquinas.
Tsumoru Shintake, profesor del Instituto de Ciencia y Tecnología de Okinawa (OIST), propuso una tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV, por sus siglas en inglés) que supera el estándar en la fabricación de semiconductores.
El Instituto explicó que la litografía EUV basada en este diseño puede funcionar con fuentes de luz EUV más pequeñas, lo que reduce los costos y mejora drásticamente la confiabilidad y la vida útil de las máquinas.
También detalló que consume menos de una décima parte de la energía de las máquinas de litografía EUV convencionales, lo que ayuda a que la industria de los semiconductores sea más sostenible desde el punto de vista medioambiental.
“Esta tecnología ha sido posible solucionando dos cuestiones que antes se consideraban insuperables en este campo. El primero se refiere a un novedoso sistema de proyección óptica compuesto por sólo dos espejos. El segundo implica un nuevo método para dirigir eficientemente la luz EUV hacia patrones lógicos en un espejo plano sin bloquear el camino óptico”, explicó el OIST.
Asimismo, dijo que los procesadores que hacen posible la Inteligencia Artificial (IA), los chips de bajo consumo utilizados en teléfonos móviles y la memoria DRAM de alta densidad se fabrican utilizando litografía EUV.
“La producción de semiconductores se ve desafiada por el alto consumo de energía y la complejidad del equipo, lo que aumenta drásticamente el costo de instalación, mantenimiento y consumo de energía”, señala el reporte del Instituto de Ciencia y Tecnología de Okinawa.
Por ello, el profesor Shintake asegura que su invento es una tecnología innovadora que puede resolver casi por completo estos problemas poco conocidos.